突破！”卡脖子”国产光刻机启动产线测试！

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中国芯片制造龙头企业中芯国际近日开始对其首台国产浸没式光刻设备进行工厂测试，这标志着中国在半导体关键设备领域取得重要进展。该设备由上海某公司研发，采用193纳米光源和浸没式技术，可用于28纳米及以上制程的芯片生产。

突破！"卡脖子"国产光刻机启动产线测试！
据了解，浸没式光刻技术是半导体制造的关键环节，通过在镜头和硅片之间注入高折射率液体，能够显著提升光刻分辨率。此次测试的设备支持单次曝光38纳米分辨率，通过多重曝光工艺可进一步延伸至更先进制程。测试将重点评估设备的对准精度、产线匹配度和长期运行稳定性等关键指标。

“这是中国半导体设备自主化道路上的重要里程碑，”中国半导体行业协会专家表示。目前全球浸没式光刻设备市场主要由荷兰ASML公司垄断，国产设备的突破将有助于缓解中国芯片制造业面临的设备供应压力。

突破！"卡脖子"国产光刻机启动产线测试！
行业数据显示，2023年中国半导体设备市场规模超过300亿美元，但国产化率仅为20%左右，其中光刻设备的国产化率更低。此次测试如果成功，将大幅提升中国在关键半导体设备领域的自主可控能力。

值得注意的是，设备测试需要经历较长的验证周期。从工厂测试到量产应用，通常需要12-18个月时间。期间需要解决设备与产线其他环节的协同问题，确保良率达到商业化要求。

市场分析指出，虽然国产设备与国际最先进水平仍有差距，但28纳米及以上成熟制程足以满足大多数芯片需求。目前全球芯片市场中，成熟制程产品占比超过70%，在汽车电子、工业控制、物联网等领域应用广泛。

中芯国际近年来持续加大研发投入，2023年研发支出同比增长25%。公司在北京、上海、深圳等地的晶圆厂正在扩产，对国产设备的需求持续增长。

业内人士认为，半导体设备国产化是一个系统工程，需要芯片设计、制造、设备、材料等全产业链的协同创新。此次光刻设备的突破，将带动相关产业链的发展，为中国半导体产业注入新的动力。

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