国产DUV光刻机问世！

pengngychita

作者：纵横十

9月9日，中国工信部发布了《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》，里面的氟化氪光刻机照明波长248nm、套刻精度⩽25nm，氟化氩光刻机光源193纳米，套刻≤8nm。

这里有3点值得注意：

其一，传统DUV光刻机，其光源为193纳米或248纳米，中国问世的这两型光刻机符合此条件，应该就是我们通常所说的DUV光刻机，只是官方没采用“DUV光刻机”这种说法。

其二，这两种光刻机已经开始“推广应用”，意味着它们不是实验室样品，而是成熟产品，并且是拥有自主知识产权的国产光刻机。

其三，氟化氩光刻机的套刻精度小于8nm，结合我们的多重曝光技术，有可能能做7nm、5nm芯片。

上述三点是作者的个人看法，如果理解的没有偏差，意味着中国DUV光刻机已正式问世，这将是具有里程碑意义的重大事件。

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